超臨界萃取技術是現代化工分離技術的 新學科，是目前上興起的一種*的分離工藝。超臨界萃取是指在一定的壓力、合適的溫度下，在萃取缸中，溶劑與被萃取物充分接觸，溶質擴散到溶劑中，再在分離器中改變工作條件，使溶解物質析出，以達到分離的目的。
超臨界萃取有如下特點：
1、 萃取溫度低，制品不會被分解。
2、 對溫度和壓力的精確控制，可以實現有選擇的萃取。
3、 制品中無溶劑殘留。
4、 溶劑可以循環(huán)使用。
5、 無環(huán)境污染。
超臨界流體萃取技術以CO2 作為溶媒，其優(yōu)點：
1、 CO2 的超臨界狀態(tài)容易實現。
2、 對食品和藥品無毒性污染。
3、 有防止細菌活動的作用。
4、 不易燃燒，化學穩(wěn)定性好。
5、 價格低廉，經濟性好。
該超臨界清洗裝置主要是應用超臨界CO2萃取原理來實現對半導體硅片的清洗。
裝置特點：
1、工藝方面：
（1） 能滿足超臨界二氧化碳（Tc≥31.06℃、Pc≥7.39MPa）的間歇式工作條件，二氧化碳可循環(huán)利用。
（2） 在清洗器前設計了混合器，可使CO2進入清洗器前充分的與夾帶劑預混。
（3） 清洗器堵蓋上設計了一個快開式觀察孔，可方便觀察。
（4） 清洗器后的管路上，通過一級、二級過濾分離裝置實現了氣、液、渣的分離，確保了系統(tǒng)管路暢通、不堵塞。
（5） 一級、二級分離裝置均設計有水夾套及外保溫裝置，采用兩套恒溫水浴及低溫冷卻液來控制來控制一級、二級分離器的溫度，并確保了 終出來的CO2成為氣態(tài)被回收再利用。
（6） 清洗器設置了獨立的內加熱裝置和低溫冷水循環(huán)系統(tǒng)，溫度在-15℃-200℃范圍內可調。
2、控制系統(tǒng)方面：
（1） 清洗器、一級分離裝置、二級分離裝置等關鍵監(jiān)測點的壓力、溫度設計了壓力傳感器和溫度探頭以及帶通訊口的數顯二次儀表，可實現與計算機聯(lián)網，由計算機實時監(jiān)控并記錄。
（2） 二氧化碳泵及夾帶劑泵自帶流量顯示功能，可與計算機聯(lián)網，及時采集和控制CO2和夾帶劑的流量，可實現計算機實時監(jiān)控。
（4）在清洗器后設計了手動背壓閥，可精確控制清洗器的壓力。
3、安全保護方面：
（1） 清洗器、一、二級分離器上均設計了安全閥。
（2） 二氧化碳的排氣設計了匯氣排，可統(tǒng)一排放到外界控制去，靜化了室內空氣，又減少了室內放氣的噪音。
二、主要技術參數： 
1、 裝置 大工作壓力： 15Mpa；
2、 裝置工作溫度范圍：-15—200℃
3、 CO2泵 大流量：60mL/min， 大壓力15Mpa
4、 夾帶劑泵 大流量：20mL/min， 大壓力15Mpa
5、 5、視窗窗口：φ30mm。
6、 6、壓力測試量程16MPa、壓力傳感器精度0.25級；
7、 9、設備及控制系統(tǒng)均需可靠接地，接地電阻小于4歐姆。
8、 10、總功率：10KW